图书介绍
硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型2025|PDF|Epub|mobi|kindle电子书版本百度云盘下载

- (美)普卢默(Plummer,J.D.) 著
- 出版社: 北京:电子工业出版社
- ISBN:7505386387
- 出版时间:2003
- 标注页数:818页
- 文件大小:88MB
- 文件页数:837页
- 主题词:硅-超大规模集成电路-技术-高等学校-教材-英文
PDF下载
点此进入-本书在线PDF格式电子书下载【推荐-云解压-方便快捷】直接下载PDF格式图书。移动端-PC端通用种子下载[BT下载速度快]温馨提示:(请使用BT下载软件FDM进行下载)软件下载地址页直链下载[便捷但速度慢] [在线试读本书] [在线获取解压码]
下载说明
硅超大规模集成电路工艺技术 理论、实践与模型PDF格式电子书版下载
下载的文件为RAR压缩包。需要使用解压软件进行解压得到PDF格式图书。建议使用BT下载工具Free Download Manager进行下载,简称FDM(免费,没有广告,支持多平台)。本站资源全部打包为BT种子。所以需要使用专业的BT下载软件进行下载。如BitComet qBittorrent uTorrent等BT下载工具。迅雷目前由于本站不是热门资源。不推荐使用!后期资源热门了。安装了迅雷也可以迅雷进行下载!
(文件页数 要大于 标注页数,上中下等多册电子书除外)
注意:本站所有压缩包均有解压码: 点击下载压缩包解压工具
图书目录
第1章 引言及历史展望1
第2章 现代CMOS工艺技术49
第3章 晶体生长、晶圆片制造及硅晶圆片的基本特性93
第4章 半导体生产——洁净室、晶圆片清洗与吸杂151
第5章 光刻201
第6章 热氧化及硅/二氧化硅界面287
第7章 杂质扩散371
第8章 离子注入451
第9章 薄膜淀积509
第10章 刻蚀609
第11章 后道工艺技术681
附录787
索引805
热门推荐
- 1986007.html
- 1600566.html
- 555806.html
- 1679689.html
- 3021362.html
- 3819625.html
- 3332267.html
- 3746052.html
- 2307662.html
- 3355705.html
- http://www.ickdjs.cc/book_2246655.html
- http://www.ickdjs.cc/book_1540756.html
- http://www.ickdjs.cc/book_721104.html
- http://www.ickdjs.cc/book_3740882.html
- http://www.ickdjs.cc/book_1056210.html
- http://www.ickdjs.cc/book_3651434.html
- http://www.ickdjs.cc/book_847081.html
- http://www.ickdjs.cc/book_1507140.html
- http://www.ickdjs.cc/book_718136.html
- http://www.ickdjs.cc/book_3610425.html