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第一章 半导体设备与半导体工艺的关系1

第一节　半导体工艺的特点及其与设备的关系1

第二节　硅圆片尺寸更迭与设备换代8

第三节　设备与工艺成品率、效率的关系9

第四节　设备的发展带来工艺方法的演进和多样化11

10 LPOU/LLPS-X激光液体微粒分析仪15

第二章 单晶炉和切、磨、抛设备15

1 6-4-2型硅单晶炉16

第一节　单晶炉16

2 CG-3000,CG-6000单晶炉17

4 EKZ250/200单晶炉18

3 CG-10000单晶炉18

5 Galaxie-2和Galaxie-3单晶炉20

6 Autox单晶炉22

7　860D单晶炉23

8 AG-660单晶炉24

10 EP-601和EP-801单晶炉25

9　PDP-3800RW单晶炉25

1 TSK-4020S、5020S、6030S切片机26

第二节　切、磨、抛设备26

2 TSK-2510高速切片机27

3 922、927、933超精密切片机28

6 STC-155型切片机29

4 DAS-61、-651、-651-MS自动切片机29

5 200系列（S-LM-221D、223D、227D）切片机29

8 MBS-MBM-MBL型多刃式切片机30

7 STC-200型切片机30

10 TS-42型切片机31

9 TS-23型内圆切片机31

12 System 360型研磨、抛光机32

11 KDL-47型双面研磨机32

13 24、36型水冷式Laporte双面抛光机33

15 SVG-D104RV全自动超精密平面磨床34

14 500·24型Laporte单面抛光机34

17　DSPM-1000B双面抛光装置35

16 3800型无蜡抛光机35

18 U.S.P-研磨和抛光机36

19 32SPW硅片抛光装置37

第一节　计算机辅助设计38

第三章 计算机辅助设计与制版38

1 MEDS系统39

2　Daisy公司的系统40

5　DRACULA验证系统41

3 CHIPS GDSII系统41

4 SX-8000系统41

第二节　掩模制造42

6 SCALD系统42

7 CV系统42

2 1005A图形发生器43

1 3600F图形发生器43

3 251CC COMBO图形发生器44

5 保护膜Pellicle45

4 3696精缩机45

第四章 掩模及圆片处理系统和清洗装置47

1 APT914、9145EP正胶处理机48

3 3111-EBD电子束抗蚀剂用的掩模显影机49

2 APT915、9155电子束抗蚀剂处理机49

6 LSI系列和6000系列圆片处理系统50

4 SPS-616-A、SDS-616-A型掩模处理装置和掩模显影装置50

5 SCS-616-A掩模涂胶机50

7 OMNICHUCK、MULTIFAB、TARGE、TRACK圆片处理系统52

8 WAFERTRACK 1000和1006圆片处理系统53

9 CDS-630涂胶、显影装置54

10 602、603、605、608掩模版清洗机55

14 圆片自动刷片机56

11 掩模版清洗机56

12 MT-01SD自动掩模清洗装置56

13 SVG-8020 SSC单面擦片机56

16 FSI NEPTUNE漂洗干燥机57

15 FSI K130漂洗干燥机57

17 FSI TITAN酸处理系统58

19 SPEC清洗设备59

18 4000系列化学清洗机59

21 兆声清洗机60

20 AWCT-4SPA圆片自动清洗机60

22 Atcor CRD-1100自动去沾污系统61

23 IPA精密蒸发器干燥装置62

第五章 光刻设备63

1 CA-800接触式光刻机64

2 SUSS、MJB3、MJB45、MA-56接近、接触式光刻机65

3 PLA-501F/FA接近、接触式光刻机66

4 PLA-521F/FA接近式远紫外光刻机67

6 MPA-500FAb反射投影光刻机68

5 MICRALIGN型300系列340HT扫描投影光刻机68

8 FPA-1550步进投影光刻机69

7 GCA 6000系列步进投影光刻机69

9 NSR系列步进投影光刻机70

10 AüR步进投影光刻机71

11 Ultra Step 1000型1∶1步进投影光刻机72

第六章 微细曝光设备74

1 EBES4电子束曝光机76

2 Chiprite电子束曝光机77

3 EBMF-6电子束曝光机78

5 EBMF-10.5电子束曝光机79

4 EBMF-6.5电子束曝光机79

6 ELS-2A电子束曝光机80

8 ELS-3300电子束曝光机81

7 ELS-5000电子束曝光机81

9 HL-600型电子束曝光机82

10 JBX-6A电子束曝光机83

11 JBX-6AⅡ电子束曝光机84

12 EB-55电子束曝光机85

14 EB-60电子束曝光机86

13 EB-57电子束曝光机86

15 AEBLE-150电子束曝光机88

16 EB-F电子束曝光机89

17 MEBESⅢ电子束曝光机90

18 Beamwriter电子束曝光机91

19 EBM-105RB/40电子束曝光机92

20 EX-7电子束曝光机93

21 VLS20、40、80电子束曝光机94

22 VLS-1000电子束曝光机95

23 ZBA-20电子束曝光机96

24 MX-15X射线曝光机97

25 MX-1600步进重复式X射线曝光机99

26 XPW-301X射线曝光机100

27 IBL-100离子束曝光机101

29 JIBL-100聚焦离子束装置102

28 Microfocus聚焦离子束曝光机102

31 IPS-200离子投影步进曝光机103

30 JIBL-150实用型聚焦离子束装置103

第七章 薄膜制造设备105

3 Gemini 1/2型外延炉106

第一节 外延设备106

1 AMC-7811、7821型圆筒式外延炉106

2 AEC-2506型立式外延炉106

4 MR-100、MR-190、MR-200型化合物半导体用的外延炉107

7 AMS型连续式低温氧化膜生长装置108

5 液相外延炉108

6 DC-6000E、DC-7000E型硅外延单晶炉108

8 830S分子束外延装置109

9 VG-80分子束外延装置110

10 VG-80H分子束外延装置111

3 SPF-200、-300系列小型溅射装置112

第二节 溅射装置112

1 ILC-1013盒对盒式串接溅射装置112

2 SPC-500系列生产用批量溅射装置112

5 SWS 600单片式溅射装置113

4 SPF-400、-500、-700系列中规模生产批量试制用的溅射装置113

7 AST-601溅射系统114

6 MILLATRON-Ⅵ-IBC离子束溅射装置114

9 5200系列磁控管溅射装置115

8 CVC 2800真空锁式溅射系统115

12 WaferlineⅡ溅射系统116

10 DV-1100磁控管溅射装置116

11 MRC 943溅射系统116

14 SC-701离子溅射装置117

13 4480型溅射装置117

16 S-Line 757型盒式单片连续溅射装置118

15 CCS-1200、1400盒式连续溅射装置118

18 MDP-1000圆盘溅射装置119

17 MCH-7300、-6200全自动高速溅射装置119

19 3180、3280型盒式溅射装置120

3 减压CVD装置121

第三节 CVD装置121

1 ILV-9100串联型等离子体CVD装置121

2 PED-301、-401等离子体CVD装置121

5 微压CVD装置122

4 AMP-3300型等离子体CVD装置122

6 等离子体增强型CVD装置123

9 421型金属有机物气相外延装置124

7 410A型GaAsCVD装置124

8 410-MO型金属有机物气相外延装置124

11 ND 5200等离子体CVD装置125

10 等离子体CVD装置125

13 DJ-8300低压CVD装置126

12 Genus 8301减压CVD装置126

16 18MT-1203-M型连续式CVD装置127

14 DJ-6000、9000系列低压CVD薄膜生长装置127

15 等离子体CVD薄膜制造装置127

18 PWS-5000型全自动式常压CVD装置128

17 GL-560型等离子体CVD装置128

20 PD-10型等离子体淀积装置129

19 MCV-1035B型有机金属CVD装置129

22 MO-200型MOCVD装置130

21 PDM-303型多室等离子体CVD装置130

25 216、232型Pyrox CUD SiO2装置131

23 EG、EL系列MOCVD装置131

24 减压MOCVD装置131

27 EGV-28F型立式CVD装置132

26 TSGD-120型真空锁式等离子体CVD装置132

28 CPD-1114、-1108D、-6108型等离子体CVD装置133

30 HN-1真空锁式光CVD装置134

29 6CVD（SiO2-PSG）88型连续常压CVD装置134

2 SEC系列真空镀膜机135

第四节 真空镀膜机135

1 SVC-700型超小型真空镀膜机135

5 CE-650型连续式离化镀膜机136

3 MDC-2001型淀积用计算机系统136

4 弧光放电式高真空离子镀膜机136

7 EVD、EVC系列高真空自动镀膜机137

6 HCU-12P-70钟罩式高真空镀膜机137

9 EBX-8C、EBX-10C、EBX-16C盒式高真空镀膜机138

8 System-1200真空锁式高真空镀膜机138

11 NOVA ICB-200、NOVAICB-100型离化团束镀膜机139

10 UMS 500型超高真空镀膜机139

12 CIP-450、CIP-650型离化团束镀膜机140

第八章 扩散注入和退火装置141

2 DD-6000、9000系列扩散炉143

第一节 扩散炉143

1 280-1、280-2、203-2、206-2型扩散炉143

5 ICC（集成电路计算机控制）扩散炉144

3 HS 1200 ND（1124）立式扩散炉144

4 ERECTUS立式扩散炉144

6 Tytan自动化扩散炉145

1 Precision Implant（精密注入）9000大束流离子注入机146

第二节 离子注入机146

2 NV-10-80予淀积式大束流离子注入机147

3 NV-10-160予淀积式大束流离子注入机148

4 NV-20-200大束流离子注入机150

6 GA-3204中束流离子注入机151

5 NV-200大束流氧离子注入机151

7 NV-3206型离子注入机153

9 NV-8200离子注入机154

8 NV-6200离子注入机154

10 NV-1000系列高能离子注入机155

11 Z-200离子混合淀积装置156

12 HVEE兆伏级高能离子注入机158

14 1500-25型生产用兆伏级离子注入机160

13 IP-815/825离子注入机160

15 MV-H20、MV-T30型高能离子注入机162

16 PR-200大束流离子注入机163

17 NH-20C中束流离子注入机164

18 IM-200M系列中能离子注入机165

19 IM-80H大束流离子注入机167

20 200-DF5（DF-4）离子注入机168

21 350D中束流离子注入机169

22 DF-3000中束流离子注入机170

23 400XP高能离子注入机171

24 160-10大束流离子注入机172

25 VHC-120大束流离子注入机174

26 4840大束流离子注入机176

27 2500-WE中束流离子注入机177

28 400MPH高能离子注入机178

29 2100MP中束流离子注入机179

30 OXIS 100大束流氧离子注入机180

31 Whickham大束流离子注入机181

1 210M、210T、210I型超高速灯退火装置182

第三节 退火装置182

4 IA-200型退火装置183

2 EBA-5型电子束退火装置183

3 LAM-611-A型红外灯退火装置183

6 ROA-400型快速光退火装置184

5 SL461型激光退火装置184

第九章 蚀刻装置186

2 AES-1000、-2000型铝自动蚀刻机187

第一节 湿法蚀刻机187

1 VME-1型铝真空蚀刻机187

4 碱蚀刻机188

3 HMES-2000型硬掩模蚀刻机188

7 HSE-1000型高精度SiO2自动蚀刻机189

5 SPW-612-A、SPW-621-A型旋转蚀刻机189

6 EMW-423、EMW-413型喷射式蚀刻机189

1 AME-8100系列反应离子蚀刻机190

8 下流式铝蚀刻机190

第二节 干法蚀刻机190

3 4003型盒对盒式RIE蚀刻机191

2 DE系列反应性离子蚀刻机191

5 SWE-600型等离子体／反应性离子蚀刻机192

4 ILD-4013 RIE（反应离子蚀刻机）192

7 6000系列等离子体蚀刻机193

6 S系列2000、4000、3000灰化器、蚀刻、剥离机193

9 GIR-200型RIE/PPE干法蚀刻机194

8 6100系列反应离子蚀刻机194

11 5000系列等离子体蚀刻机195

10 DRIE-203反应离子铝蚀刻机195

13 RE-655A型干法蚀刻机196

12 PE-5200系列等离子蚀刻机196

15 DV-2000型单片式反应离子蚀刻机197

14 DV-40反应性溅射蚀刻机197

16 Auto-Etch等离子体蚀刻机198

17 Omni-Etch 2000型干法蚀刻机199

20 DES-AL系列全自动筒式等离子体蚀刻机／灰化机200

18 DES-A103型全自动连续送片式等离子体蚀刻／灰化机200

19 DES-A303系列全自动单片式等离子体蚀刻机200

21 RIE 800反应离子蚀刻机201

23 RIE-1000系列蚀刻机202

22 PE-303型等离子体干法蚀刻机202

25 PE-ⅡD平行平板型等离子体蚀刻、淀积机203

24 HE-Ⅲ和HE-ⅢXR反应离子蚀刻机203

26 Plasma-SetteⅡ型反应离子蚀刻／等离子体蚀刻机204

28 OAPM-301B型皮带传送式全自动连续送片式等离子体蚀刻机205

27 HiRRIE型盒式快速反应性离子蚀刻机205

30 CES-2120等离子蚀刻机206

29 OAPM-400型带真空锁的全自动连续送片等离子体蚀刻机206

32 ZLN-20型干式金属蚀刻机207

31 CSE-3000L型反应离子蚀刻机207

33 RIB-310反应离子束蚀刻机208

34 MILLATRON VⅢ-C离子束刻机209

36 ISM-S型离子束蚀刻机210

35 MILLATRON 1 PM型离子束蚀刻机210

37 JIB-OIRE反应性离子束蚀刻机211

39 200系列离子束加工装置212

38 OAR离子束蚀刻机212

40 MIM-TLA 12.5微离子铣装置213

41 MIM-TLA 20微离铣装置214

42 RIB-Etch 160型反应离子束蚀刻机215

43 10″-微蚀刻离子铣装置216

44 6″-微蚀刻离子铣装置217

45 3″-微蚀刻离子铣装置218

46 IBE-V-700型离子束蚀刻机219

2 2RD2自动中间版缺陷检查系统220

第十章 检测设备220

第一节 掩模检测装置220

1 LASIX-5原始掩模版缺陷检查装置220

3 KLA221、228、229中间版检查系统221

4 KLA101 1×掩模版自动缺陷检查装置222

6 RI-1000系列CHIPCHECK图形缺陷检查装置223

5 5MD44 1×掩模版自动缺陷检查装置223

7 DRSII掩模缺陷激光修整装置224

10 MVG 7×7掩模比较仪225

8 SL452C掩模版缺陷修整装置225

9 MC-7掩模比较仪225

11 MPA-3微细尺寸测量装置226

第二节 圆片检测装置227

12 XY-21激光干涉座标测量仪227

1 6032、6033、6034和6035平整度、厚度和电阻率测量仪229

2 Wafer CHECK 7000C圆片分选系统230

4 SURFSCAN 160表面缺陷和沾污探测仪231

3 DDS-3激光扫描缺陷检查系统231

5 MPV-SP膜厚测量仪232

7 L116增益自动控制式椭园仪233

6 NANO SPEC/AFT自动膜厚测定装置233

8 MPVCD、MPVCD2线宽测量系统234

9 NANOLINE V线宽测量系统235

11 2WD23/2 WD24自动圆片检查装置236

10 LIS圆片检查台236

13 2015结深测量装置237

12 KLA-2020全自动圆片检查装置237

15 FPP-5000型四探针239

17 CSM系统240

16 101C六探针仪240

18 Qualimatic S-100付里叶变换红外谱仪241

19 α-Step200计算机控制的表面轮廓测量仪（台阶仪）242

21 4062半导体参数测试系统243

20 1034X-6、1034X自动圆片探针台243

1 KS 380自动圆片装片系统245

第十一章 集成电路后步工序设备245

3 3000系列圆片划片机246

2 KS 797自动砂轮划片机246

5 KS 6300自动芯片键合机247

4 DFD-2HST全自动划片机247

7 Desert 2000全自动芯片键合机248

6 SPM-FA-PA-5H全自动芯片键合机248

9 CPS-100高速环氧芯片键合机249

8 Foton 8030A全自动芯片键合机249

10 KS 1482自动引线键合机250

11 FB-106A高速金丝球焊键合机251

12 AB 502高速自动铝引线键合机252

14 SWB-FA-UTC-20全自动金丝球焊键合机253

13 Foton 8050自动金丝球焊键合机253

16 SW-1-17 SW-1-18全自动超声铝丝楔焊键合机254

15 2480型、2460型铝丝球焊键合机254

17 FC 1300叩焊键合机255

18 4810群焊键合机256

19 VSKO-136塑封压机256

21 SM-8000气密封焊机257

20 1801型计算机气密封焊机257

24 ECC-1B环氧树脂涂覆机258

23 Cu-600系列封焊炉258

22 C-系列封焊炉258

26 936-71 SP检漏仪259

25 MS-17UFT高生产率氦质谱检漏仪259

28 MS-4M半自动浸锡系统260

27 DGC-20高速检漏仪260

第十二章 集成电路测试系统262

1 T3380VLSI测试系统263

第一节 数字逻辑集成电路测试系统263

2 T3340 VLSI测试系统264

4 DC-8032/8033LSI测试系统265

3 DIC-8035A/BVLSI测试系统265

5 Sentry 50超大规模集成电路测试系统266

6 Sentry 21 VLSI测试系统267

8 J983 VLSI测试系统268

7 J941超大规模测试系统268

9 S3295 VLSI测试系统269

10 MEGAONE超大规模测试系统270

11 GR16 VLSI测试系统271

12 GR1732M数字集成电路测试系统272

3 DIC-8044存储器测试系统273

2 T3331B存储器测试系统273

第二节 存储器测试系统273

1 T3370存储器测试系统273

4 DIC-8020B/E存储器测试系统274

5 Xincom 5588存储器测试系统275

7 Q2/52通用存储器测试系统276

6 J386A存储器测试系统276

8 9400存储器测试系统277

10 GR1734M存储器测试系统278

9 9300M存储器测试系统278

1 T3710系列模拟测试系统279

第三节 模拟集成电路测试系统279

2 DIC8060系列线性IC测试系统280

3 S80模拟集成电路测试系统281

4 A360模拟LSI测试系统282

5 A370模拟LSI测试系统283

7 GR1731M模拟集成电路测试系统284

6 LTX77模拟集成电路测试系统284

8 2300型电耦荷合器件测试系统285

9 T3155图象传感器测试系统286

2 T3996型器件成品分选处理机287

1 T3994A/B型器件成品分选处理机287

第四节 集成电路成品分选处理机287

5 T393/28型成品分选处理机288

4 T393/48成品分选处理机288

3 T3997型动态测试处理机288

7 AHM631/632 2A型成品分选动态测试处理机289

6 AHM-621型成品分选处理机289

8 SYSTEM300A成品分选处理机290

10 SYSTEM380 OCTAL成品分选处理机291

9 SYSTEM-360DUAL成品分选处理机291

1 TPC-210、410超加速寿命试验装置293

第十三章 环境试验装置293

3 PC-364RⅡ、-304RⅡ超加速寿命试验装置294

2 PC-242RS超加速寿命试验装置294

6 PC-R系列湿度可变型超加速寿命试验装置，PC-RO系列湿度可变超加速稳定型寿命试验装置295

5 HH-BT耐湿老化装置295

4 PC-454S、-362S超加速寿命试验装置295

8 PC-D系列精密型超加速寿命试验装置296

7 PC系列标准型超加速寿命试验装置296

11 恒温恒湿室、环境试验室、净化室297

10 BI系列动态老化装置297

9 DB系列ダィナフレツクス老化装置297

14 PAC-60-10空气喷射式环境试验装置298

13 MEC-3集成电路老化用恒温槽298

12 联机式高低温实验装置298

16 日立ES系列热冲击试验装置299

15 日立EA系列老化装置299

19 VS-50-06大台面振动试验装置300

18 TPR磁带随机振动控制器300

17 VSW系列温度-湿度-振动综合试验装置300

22 TSR-63冷热冲击试验器301

21 G-2系列微型振动发生器301

20 G-O系列振动发生装置301

24 NT-40X-653高级系列热冲击试验器302

23 TSV-40、200冷热冲击装置302

26 H-251S半导体用的离心式加速度试验装置303

25 TPO-452A热气流温度试验装置303

第一节 纯水设备305

第十四章 洁净技术设备305

1 ELGA INTERCEPTRO“L”反渗透装置306

2 SW系列反渗透装置307

4 ELGAMAT MONO离子交换器308

3 KD系列反渗透装置308

5 MB系列混合床离子交换器309

6 VUF系列超过滤装置311

7 PALL超过滤装置312

8 MCM 1100/MPH1150超声波微污染监测仪313

9 CJ210/221Climet自动传感器和多通道探测器314

11 4113液体微粒测量装置316

12 DC-80自动化验总有机碳分析仪317

1 THLP型低温吸附精制装置318

第二节 超纯气体设备318

2 LS系列氢气纯化装置319

3 TIP型惰性气体纯化装置320

4 TOP型氧气纯化装置321

5 ZAV-2微量氧分析仪322

6 HXV系列自动气体纯化器323

8 梅索松焊接式高纯气体过滤器324

7 2100直读式露点仪324

9 ULF型在线气体过滤器325

10 GASKEENTM气体过滤器326

第三节 空气净化设备326

1 11和13系列超高性能空气过滤器327

2 NMPV系列压损0.1微末超高效空气过滤器327

3 ATOMOS超高效空气过滤器328

4 LAS-X激光气溶胶分析仪329

6 ROYCO 5100激光粒子计数器330

7 LPC-110微细激光粒子计数器330

5 LPC-101激光粒子计数器330

8 3020凝聚核计数器331

附录一 国外主要半导体设备制造厂商简介333

14 ASR-100C/2自动扩展电阻探针338

附录二 国外半导体设备性能、格价一览表349

1 单晶炉350

2 磨片机354

3 圆片抛光机357

4 光学图形发生器359

5 切片机360

6 CAD362

7 电子束曝光机364

8 X射线曝光机374

10 步进重复照相机379

11 接近、接触曝光机380

12 扫描投影曝光机383

13 步进投影曝光机384

14 干法蚀刻装置386

15 光刻胶处理系统394

16 光刻胶400

17 圆片清洗设备410

18 扩散炉412

19 离子注入机414

20 光退火设备424

21 化学气相淀积设备426

22 分子束外延设备436

23 蒸发设备437

24 溅射设备443

25 芯片划片机451

26 芯片键合机452

27 引线键合机458

28 封焊设备466

29 塑封设备467

31 表面轮廓测量仪468

30 表面缺陷和沾污检查系统468

32 膜厚测量系统469

33 硅片厚度、电阻率、平整度测量仪470

34 硅片检查系统471

35 椭园仪472

36 探针台473

37 掩模平整台、针孔检查设备474

38 掩模比较检查设备475

39 掩模自动缺陷检查系统476

40 掩模版清洗系统477

41 掩模版处理系统478

43 扫描电子显微镜480

44 光线线宽测量设备482

45 参数测试系统486

46 检漏仪488

47 数字逻辑电路测试系统系489

48 存储器测试统493

49 线性（模拟）测试系统496

42 修版设备497

9 聚焦离子束设备783