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目录1

第1章 真空技术的物理基础1

1.1理想气体、气体状态方程1

1.2气体的压强、真空及其度量3

1.3气体分子间的碰撞、平均自由程5

1.4气体分子对器壁的碰撞、余弦定律6

1.5低压气体的热传导、真空绝热8

1.6.1稀薄气体流动状态及其判别9

1.6低压气体在管道中的流动，管道流导的计算9

1.6.2管道流导能力的计算11

1.6.3真空管道流导的图算法13

1.7真空技术的基本方程、有效抽速14

1.8固－气界面现象16

1.8.1材料在真空中的放气17

1.8.2气体通过材料的渗透20

1.9液－气界面现象、蒸发与凝结22

1.10气体放电22

1.10.1气体放电机理23

1.10.2气体放电的全程伏安特性曲线24

1.10.3气体放电的辉光现象27

1.10.4阴极溅射30

第2章 辉光离子热处理技术31

2.1辉光离子渗氮31

2.1.1辉光离子渗氮的基本原理及其评价31

2.1.2辉光离子渗氮的放电特点36

2.1.3辉光离子渗氮炉结构及其主要部件38

2.1.4辉光离子渗氮炉的电源45

2.1.5辉光离子渗氮炉的气源53

2.1.6离子渗氮炉操作54

2.1.7辉光离子渗氮工艺的发展55

2.2辉光离子放电渗元素的其他应用57

2.2.1真空离子渗碳及氮碳共渗（离子软氮化）57

2.2.2离子渗硫及硫氮共渗58

2.2.3离子渗其他元素58

2.3离子热处理设备的发展60

第3章 离子注入技术与材料改性64

3.1离子注入原理及其特点64

3.2离子注入金属的物理过程65

3.3轰击扩散离子注入法（或称辐射合金化法）66

3.4离子注入技术的应用67

第4章 真空沉积薄膜强化技术71

4.1真空蒸发镀膜原理及其基本过程73

4.2溅射镀膜75

4.2.1溅射镀膜的原理和特点76

42.2二极溅射82

4.2.3三极或四极溅射84

4.2.4磁控溅射86

4.3离子镀膜93

4.3.1直流二极、三极及多极型离子镀膜98

4.3.2射频法离子镀膜99

4.3.3活性化学反应离子镀膜（ARE法）100

4.3.4空心阴极放电离子镀（HCD法）102

4.4化学气相沉积（CVD法）111

4.4.1化学气相沉积的原理和特点113

4.4.2等离子体化学气相沉积116

5.1普通真空化学热处理的类型及其基本物理化学过程123

第5章 钢的普通真空化学热处理123

5.2真空渗碳125

5.3真空渗氮及碳氮共渗127

5.4真空渗其他非金属元素127

5.5真空渗金属元素129

5.6真空渗复化合物—TiC136

第6章 涂层真空熔烧强化138

6.1涂层真空熔烧合金层的性能138

6.2涂层真空熔烧炉139

6.3真空熔烧涂层工艺简介140

6.4涂层烧结法的其他应用141

第7章 真空表面强化设备的真空系统142

7.1真空获得设备142

7.1.1油封式机械真空泵143

7.1.2罗茨泵（机械增压泵）148

7.1.3油蒸汽流泵149

7.2真空测量153

73真空系统元件157

7.4真空系统举例161